Успокаивающая маска с ресвератролом Dr. Althea 345 Relief Cream Mask

Успокаивающая маска Dr. Althea 345 Relief Cream Mask увлажняет, смягчает и восстанавливает повреждённую кожу. Уменьшает красноту и раздражение, ускоряет регенерацию, подавляет воспалительный процесс.

Маска из целлюлозы пропитана молочной эссенцией, созданной на основе крема 345 Relief Cream, которая делает кожу гладкой и сияющей, сокращает покраснение и шелушение.

Содержит 3 типа активов: ресвератрол, витамины B3 и B5 выравнивают тон и уменьшают постакне; ПДРН, церамиды, гиалуроновая кислота и бета-глюкан увлажняют, ускоряют заживление; чайное дерево, центелла, зелёный чай, полынь и пантенол снимают зуд и раздражение.

Основные действующие компоненты:

• Ресвератрол — антиоксидант, содержащийся в кожуре винограда и других фруктов, в какао и в орехах. Борется со свободными радикалами, усиливает защитные функции, продлевает молодость клеток, предотвращает появление морщин.
• ПДРН (Sodium DNA) — полинуклеотиды с низкой молекулярной массой. Они запускают процессы восстановления и синтеза новых коллагеновых и эластиновых волокон, восстанавливают повреждение кожи, вызванное преждевременным старением, чрезмерной инсоляцией и агрессивным воздействием других факторов среды. 
• Пантотеновая кислота (витамин B5) успокаивает, ускоряет заживление, способствует удержанию влаги в эпидермисе.
• Церамиды схожи с липидами: они укрепляют естественный защитный слой, устраняют шелушение и сухость, предотвращают потерю влаги и снижают чувствительность к внешним раздражителям.
• 2 вида гиалуроновой кислоты увлажняют и формируют гидролипидный барьер, препятствующий обезвоженности.
• Экстракт центеллы азиатской снимает покраснение и раздражение, укрепляет стенки сосудов, уменьшает проявление купероза, повышает эластичность.
• Гидролат чайного дерева — природный антисептик, оказывает антибактериальный эффект, успокаивает постакне, нормализует себовыделение.

Подходит для всех типов кожи.

Способ применения: после очищения, тонизирования и использования сыворотки поместите маску на лицо, распределите. Снимите спустя 10−20 минут, дайте впитаться остаткам эссенции. При необходимости завершите процедуру ухода нанесением крема.